Aurora Integrated RF Power Supply 整合式高頻電源供應器
Application Range In Plasma Systems
PVD                               物理氣相沉積
HDP-CVD                           高密度化學氣相沉積
Capacitively coupled plasma (CCP) 電容耦合電漿and Inductively Coupled Plasma ( ICP)         感應耦合電漿系統 
Reactive Ion Etching (RIE)        電漿蝕刻
PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 電漿輔助化學沉積
Plasma Clean System               電漿清潔系統
Atmospheric Plasma System         常壓大氣電漿系統
       Biomedical-Biochip                生物醫學-生物晶片
       Nano-materials                    奈米材料